在MEMs、晶圆及其它形貌衬底上用超声喷涂法进行光刻胶涂覆

Siansonic（东方金荣）提供用于半导体光刻胶涂覆的超声波喷涂技术，相比于旋涂、浸涂等传统涂覆工艺，其有着均匀度高、对微结构包裹性好、涂覆面积可控等优势。过去10年中，已充分证明利用超声喷涂技术进行的3D微结构表面光刻胶涂覆，其制备出的光刻胶涂层在微结构的包裹性和均匀度方面都显著高于传统旋涂工艺。东方金荣涂胶系统可用于包括硅片、玻璃、陶瓷、金属等材料的平面和3D结构基材表面涂覆，典型的光刻胶涂层应用包括晶圆、MEMs、镜头、微流控芯片、过滤器等等。超声喷涂是一种简单有效且经济稳定的光刻胶涂覆解决方案，Siansonic（东方金荣）超声喷涂系统采用先进的分层技术，可对送胶流量、喷涂速度和沉积量进行精确控制。低速柔和的超声波雾化技术使雾化喷雾成为精确、可控的，避免过度喷雾的同时制成超薄均匀的涂层。使用超声波雾化技术的直接喷涂被证明是在3D微结构上沉积光刻胶的一种可靠而有效的方法，从而减少了因金属过度暴露于蚀刻剂而导致的器件故障

Siansonic（东方金荣）超声波喷头在喷涂光刻胶工艺中的优点

• 涂层均匀覆盖各种表面形貌

• 能够均匀涂覆高深宽比的沟槽

• 不易堵塞的喷头降低维护成本

• 能够以高均匀性沉积数十微米的加厚涂层

• 高可控性和稳定性

所有超声喷涂系统的核心是我们自主知识产权的超声波喷头，它通过高频超声振动产生均匀柔和的雾化颗粒。超声喷头解决了喷嘴堵塞问题，因为不需要通过压力来产生雾化，并且具有非常窄的液滴尺寸分布，所以进一步有助于沉积层均匀性的提高。点击了解更多有关超声波喷头工作原理。